Volframo{0}}titano lydinys yra medžiaga, legiruota iš pereinamųjų metalų volframo ir titano. Jis pasižymi dar didesniu tankiu ir grynumu, geresniu atsparumu korozijai ir mažesniu tūrio išsiplėtimu, o tai efektyviai sumažina dalelių susidarymą gamybos metu, todėl kokybiškų plonų plėvelių gamyba yra sėkminga.
Volframo{0}}Titano lydinio taikiniai gaminami naudojant miltelinės metalurgijos technologiją ir yra plačiai naudojami puslaidininkiuose ir plonasluoksniuose saulės elementuose. Naudojant puslaidininkius, 10 masės % WTi plonos plėvelės tarnauja kaip difuzijos barjerai ir sukibimo sluoksniai, skirti metalizavimo sluoksniams atskirti nuo puslaidininkių, pavyzdžiui, atskiriant aliuminį nuo silicio arba varį nuo silicio. Tai žymiai pagerina puslaidininkių funkcionalumą mikroschemose. Plonos -plėvelės saulės elementuose 10 masės % WTi plėvelės taip pat tarnauja kaip barjerinis sluoksnis, neleidžiantis geležies atomams iš plieno pagrindo difunduoti į molibdeno galinį kontaktą ir CIGS puslaidininkius. Volframas-Titano lydinio taikiniai taip pat naudojami šviesos dioduose ir įrankių dangose.
Pagrindinė priežastis, dėl kurios buvo pasirinktos volframo{0}}titano lydinio taikiniai kaip difuzijos barjerai ir jungiamieji sluoksniai naujuose puslaidininkių lustuose, yra puikus lydinio sukibimas su paviršiumi ir šilumos išsklaidymas, todėl gaminiai pasižymi didesniu bendru našumu.
Volframo{0}}Titano taikinio paruošimo metodas
1. Paimkite tam tikrą kiekį volframo miltelių ir titano miltelių ir tolygiai išmaišykite juos inertinėje atmosferoje.
2. Mechaniniu presu arba šaltuoju izostatiniu presu gautą mišinį įspauskite į ruošinį.
3. Įdėkite gautą ruošinį į vakuuminę sukepinimo krosnį tankinimui ir sukepinimui.
4. Atvėsinę volframo-titano medžiagą, sukepintą 3 veiksme, ištirpinkite ją nenaudojamoje vakuuminėje lankinėje krosnyje, kad gautumėte produktą.
Volframo{0}}Titanium Target pranašumai
1. Paprastas gamybos procesas ir lengvas valdymas.
2. Naudojant volframo-titano miltelių mišinį, po kurio atliekamas presavimas, sukepinimas ir lydymas lanku, šis procesas veiksmingai sprendžia mažo efektyvumo, medžiagų vienodumo ir priemaišų kiekio problemas, susijusias su tradiciniu volframo -titano lydinio paruošimu.
Our factory can produce WTi 90/10wt% and WTi 85/15wt% targets, and can also customize targets with special compositions. The actual target density is >99%, o vidutinis grūdelių dydis yra<100μm. With purity up to 4N5 and special annealing treatment, uniform grain size and low gas content, end users can obtain constant etching rates as well as high-purity and uniform thin film coatings during the PVD process.
